Kaedah arus perdana marmar pembersihan sculpting

1. Ejen Aktif: Ini adalah kaedah yang biasa untuk membersihkan kotoran di permukaan sculpting marmar seperti terrazzo dan marmar. Terdapat dua jenis surfaktan: ionik dan bukan ionik. Molekul mereka mengandungi dua jenis gen, kutub dan bukan polar. Prinsip pembersihan adalah menggunakan sifat -sifat surfaktan untuk mengurangkan ketegangan antara muka, pembasahan, penjerapan, pengemulsi, solubilisasi, dan penyebaran untuk membuat molekul kotoran jatuh dan bersurai, dengan itu mencapai pembersihan. Kesan.

2. Pembersihan Alkali: Gunakan fungsi saponifikasi dan pengemulsi bahan kimia alkali untuk melonggarkan dan menyebarkan kotoran. Penyelesaian alkali yang biasa digunakan adalah larutan berair seperti natrium hidroksida dan natrium karbonat, yang terutama digunakan untuk menghapuskan noda minyak. Terdapat dua jenis noda minyak, saponifiable dan tidak boleh ditapis. Minyak saponifable adalah minyak haiwan dan sayur -sayuran, yang boleh membentuk sabun dan larut dalam air apabila terdedah kepada alkali, jadi mereka lebih mudah dikeluarkan. Dengan bantuan pengemulsi, ia dapat mengurangkan daya mengikat antara kesan minyak dan lampiran dan jatuh. Pengemulsi biasa termasuk trisodium fosfat, natrium silikat, dll.
3. Pembersihan Asid: Ia digunakan secara meluas dalam pembersihan ukiran batu, terutamanya untuk granit. Asid hidroklorik, asid sulfurik, asid nitrik, dan asid hidrofluorik kebanyakannya digunakan dalam asid bukan organik; Asid sitrik, asid oksalik, dan asid sulfamik kebanyakannya digunakan dalam asid organik. Jika asid sulfurik digunakan untuk menghilangkan karat, asid sulfurik bertindak balas dengan oksida besi untuk membentuk sulfat besi, yang boleh dibubarkan di dalam air, jadi karat boleh dikeluarkan. Walau bagaimanapun, masalah kakisan pembersihan asid bukan organik adalah sangat menarik perhatian, terutamanya untuk patung batu karbonat seperti marmar. Radikal asid atau asid yang tinggal di micropores boleh merosakkan patung batu untuk masa yang lama. Walaupun agen penimbal ditambah, sukar untuk mengelakkan masalah kakisan. Ia sesuai untuk pembersihan dengan asid organik atau bahan organik lain yang kurang mengakis dan mudah disucikan.
4. Pembersihan Agen Kompleks: Gunakan ejen kompleks untuk kompleks atau chelate pelbagai ion logam pembentukan skala untuk membentuk kompleks larut untuk pembersihan. Ejen chelating organik yang biasa digunakan termasuk EDTA, DTPA dan NTA. Sebagai contoh, EDTA (Ethylenediaminetetraacetic Acid) boleh menghasilkan garam polysodium, yang biasa adalah garam disodium atau garam trisodium, yang mempunyai keupayaan kompleks yang kuat untuk pelbagai ion logam yang membentuk skala.
5. Pembersihan Elektrokimia: Dengan bantuan kuasa medan elektrik di antara kedua -dua plat kutub, ion atau molekul kutub dalam tanah yang bergerak mengikut peraturan tertentu, atau mempromosikan tindak balas elektrokimia, sehingga pencemar desorb, bergerak atau menjalani kimia perubahan untuk mencapai tujuan pembersihan. Sebagai contoh, arus elektrik dapat mengurangkan daya penjerapan ion besi dalam micropores granit, meningkatkan pekali penyebaran, dan menghasilkan denyutan elektrik. Keluarkan karat pada permukaan granit dan dalam kedalaman tertentu di bawah permukaan.
6. Pembersihan pelarut: Ia menggunakan keupayaan pelarut untuk membubarkan kotoran. Jika komposisi bahan pencemar diketahui, sangat berkesan untuk memilih pelarut tertentu. Sebagai contoh, banyak pelarut organik, seperti toluena, xilena, butil asetat, dan lain -lain, mempunyai keupayaan yang kuat untuk membubarkan gris atau noda minyak. Secara amnya lebih cepat untuk mengeluarkan kesan minyak dengan pelarut organik daripada mengeluarkan kesan minyak dengan Lye. Kelemahannya ialah volatilisasi pelarut organik boleh menyebabkan kesan alam sekitar.
7. Pembersihan Biokimia: Terutamanya untuk bahan pencemar biologi. Orang ramai telah menemui hakisan dan pencemaran mikroorganisma pada patung batu untuk masa yang lama. Kaedah pembersihan yang berkesan adalah dengan menggunakan agen pembersihan biokimia yang disasarkan untuk membunuh, membubarkan, mereput, dan pelucutan.